碳酸鈣的化學式為caco3,其結晶體首要有復三方偏三面晶類的方解石和斜方晶類的文石,在常溫常壓下,方解石是安穩型,文石是準安穩型,現在首要以方解石為主。常壓下,方解石加熱到898 ℃、文石加熱到825 ℃,將分化為氧化鈣和二氧化碳;山東涂料滑石粉與所有的強酸產生反響,生成水和相應的鈣鹽(如氯化鈣CaCl2),一起放出二氧化碳;在常溫(25 ℃) 下碳酸鈣在水中的濃度積為8. 7 ×1029,溶解度為0. 0014,碳酸鈣水溶液的pH 值為9. 5~10. 2,空氣飽滿碳酸鈣水溶液的pH 值為8. 0~8. 6。碳酸鈣無毒、無臭、無刺激性,通常為白色,相對密度為2. 7~2. 9.方解石為3,文石為3. 5~4。方解石具有三組菱面體徹底解理,文石亦具有解理。重質碳酸鈣的沉降體積:1. 2~1. 9ml/ g,比外表積為1m2/g 左右;重質碳酸鈣由于顆粒大、外表光潔、比外表積小,因而吸油值較低,為48ml/ 100g 左右。超細涂料滑石粉的(de)生產工(gong)藝流程有兩種。干法(fa)生產工(gong)藝流程:首先手選從采石場運(yun)來的(de)方解(jie)石、石灰石、白(bai)堊、貝殼等,以除去脈石;然后用(yong)破碎(sui)機(ji)對(dui)石灰石進行粗破碎(sui),再用(yong)雷(lei)蒙(擺式)磨(mo)粉(fen)(fen)碎(sui)得到(dao)細(xi)石灰石粉(fen)(fen)、滑(hua)石粉(fen)(fen),用(yong)分(fen)級機(ji)對(dui)磨(mo)粉(fen)(fen)進行分(fen)級,符合粒度要(yao)求的(de)粉(fen)(fen)末作為產品包裝入庫(ku),不然返(fan)回(hui)磨(mo)粉(fen)(fen)機(ji)再次磨(mo)粉(fen)(fen)。濕法(fa)生產工(gong)藝流程:先將干法(fa)細(xi)粉(fen)(fen)制成懸浮液置于(yu)磨(mo)機(ji)內進一(yi)步(bu)粉(fen)(fen)碎(sui),經脫水、枯燥后便制得超細(xi)重質碳酸(suan)鈣。
聚合物表面改性是指在碳酸鈣粒子表面構成一層核殼結構的高聚物層。聚合物改性碳酸鈣首要有兩種情況:一種是在超細涂料滑石粉表面單體通過聚合反應構成高分子鏈段;另一種為將聚合物溶解在適當的溶劑中構成高分子溶液,并向其間參與碳酸鈣,當高聚物逐步吸附到碳酸鈣表面之后將溶劑清除,構成包覆。這樣聚合物能夠定向吸附到碳酸鈣表面,構成有用的吸附層,減少碳酸鈣粒子的集會現象,行進松散性,改進山東涂料滑石粉在運用進(jin)(jin)程中的(de)(de)松(song)散功(gong)用不佳的(de)(de)缺點,抵(di)達表(biao)面改(gai)性的(de)(de)意圖鄔潤德等運用烯(xi)烴類單(dan)體在無機(ji)引發劑(ji)過硫(liu)酸(suan)鉀的(de)(de)作用下進(jin)(jin)行納米碳酸(suan)鈣表(biao)面的(de)(de)原位聚合,改(gai)進(jin)(jin)了納米碳酸(suan)鈣的(de)(de)功(gong)用。
油墨工業中采用樹脂酸改性的超細涂料滑石粉,所配制的油墨,身骨及粘性較好,并有良好的印刷性能,且穩定性很高,細微的顆粒與其它原料混合易相容,故印品潤滑,網點完好,遮蓋力強,光澤度與鋁鋇白相當。作為填料,山東涂料滑石粉能夠提升油墨的光澤度和亮度。
現在工業上運用的表面改性工藝首要有干法工藝、濕法工藝、復合工藝三大類。干法改性是將山東涂料滑石粉末放入高速捏合機中,旋轉后升至必定的溫度,參與表面處理劑進行捏合處理。此方法簡單易行,適用于各種偶聯劑的表面處理。現在,工業上得到廣泛運用的首要是SLG型接連表面改性機。濕法改性是將先活化劑參與到溶劑中,或直接參與到超細涂料滑石粉的懸浮液中進行處理(li)。此方法(fa)表(biao)面(mian)處理(li)劑(ji)(ji)與碳酸鈣粒(li)子互相作(zuo)用,包(bao)裹均勻,作(zuo)用較好,是傳統(tong)的碳酸鈣表(biao)面(mian)處理(li)方法(fa)。一般(ban)適用于(yu)可(ke)水(shui)溶或可(ke)水(shui)解的有(you)機表(biao)面(mian)改性劑(ji)(ji)以及濕(shi)法(fa)制粉需求單調的場合,如堆(dui)積碳酸鈣、濕(shi)法(fa)細磨(mo)重(zhong)質碳酸鈣。
高能表面改性首要運用高能射線、等離子體等方法對無機粉體表面改性處理。該方法首要依托具有高能量的射線及等離子體源對山東涂料滑石粉進行表面的炮擊和觸碰,使超細涂料滑石粉表面上發生(sheng)了一(yi)些具(ju)有(you)反(fan)應活(huo)性(xing)(xing)的(de)(de)位點(dian),然后參與不(bu)飽和的(de)(de)單(dan)體(如乙烯(xi)基單(dan)體),不(bu)飽和單(dan)體能(neng)夠與表面的(de)(de)活(huo)性(xing)(xing)位點(dian)發生(sheng)反(fan)應,在無(wu)機粒(li)子(zi)表面構(gou)成一(yi)層(ceng)包覆的(de)(de)有(you)機膜。但這種方(fang)法的(de)(de)本(ben)錢(qian)高、改性(xing)(xing)之(zhi)后的(de)(de)作用(yong)也(ye)不(bu)是很安穩,運用(yong)得到(dao)必定(ding)程度的(de)(de)束縛。